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行業產品

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武漢賽斯特精密儀器有限公司


  • 紅外后對準雙面刻機 刻蝕機

    詳細摘要: 紅外后對準雙面刻機 包括ICP-SR/SRE系列,而Pegasus則是大量生產所使用的設備。包括ICP-SR/SRE系列,而Pegasus則是大量生產所使用的設...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2022-10-18 在線留言

  • 原子層沉積表面改造提升處理系統

    詳細摘要: 原子層沉積表面改造提升處理系統 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區有機發光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-08-30 在線留言

  • 原子層沉積表面改性設備分子涂層

    詳細摘要: 原子層沉積表面改性設備分子涂層 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區有機發光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-08-30 在線留言

  • 磁增強反應離子刻蝕機設備

    詳細摘要: 磁增強反應離子刻蝕機設備 是行業先的深槽刻蝕設備,可以提供理想的刻蝕速度,但同時保證側面特征良好控制和一致性。武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業研發,以力學...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 等離子刻蝕機設備

    詳細摘要: 等離子刻蝕機設備一階段:由C4F8產生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段:武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業研發,以力學試驗機儀器為主

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 紅外后對準雙面刻蝕機

    詳細摘要: 紅外后對準雙面刻蝕機 是行業先的深槽刻蝕設備,可以提供理想的刻蝕速度,但同時保證側面特征良好控制和一致性。

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 磁增強反應離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強反應離子刻蝕機 一階段:由C4F8產生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段:由C4F8產生CFn聚合物沉淀在所有的表面

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 多功能磁增強反應離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強反應離子刻蝕機 實時調節工藝過程參數,以達到理想的側面輪廓。實時調節工藝過程參數,以達到理想的側面輪廓。

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-26 在線留言

  • 多功能磁增強離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強離子刻蝕機 由于離子體的定向運動,基面上的聚合物被去除的速度要比在側壁的去除速度快。

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-26 在線留言

  • 離子刻蝕機

    詳細摘要: 離子刻蝕機 深硅刻蝕的主要應用包括: MEMS,*封裝(TSV),功率器件等等。

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-25 在線留言

  • 勻膠顯影機

    詳細摘要: 勻膠顯影機 適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 無掩模光刻機

    詳細摘要: 無掩模光刻機 美國AMP(Advanced Micro Patterning, LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 全自動曝光機

    詳細摘要: 全自動曝光機 OAI在半導體行業中擁有超過40年的制造經驗,通過新的精英級光刻設備滿足了日益增長的動態市場挑戰。

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 等離子刻蝕機

    詳細摘要: 等離子刻蝕機 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產和開發要求。通過一系列的技術的開發,SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝,比如功率MOSFET和200mm和3...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 手動/半自動曝光機

    詳細摘要: 手動/半自動曝光機 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • IPG激光劃片機

    詳細摘要: IPG激光劃片機 能適應單晶硅、多晶硅、非晶硅電池劃片和硅、鍺、砷化鎵半導體材料的劃片和切割。比如厚片(如AP公司0.7mm單晶硅多晶硅;1.2mm非晶硅帶等)...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • CMP研磨拋光系統

    詳細摘要: CMP研磨拋光系統 該機型是PM5型的升級版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理,整個過程全封閉控制,并內置自清洗功能,提升對操作人員的安全保護;全部采用...

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • ALD原子層沉積系統

    詳細摘要: ALD原子層沉積系統 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區有機發光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

    產品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

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