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光密度儀原理

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產品型號S117

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更新時間：2017-06-09 17:30:35瀏覽次數：553次

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產品簡介

光密度儀原理：光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位，是一個對數值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。

詳細介紹

　　光密度儀原理：光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位，是一個對數值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。光密度是入射光與透射光比值的對數或者說是光線透過率倒數的對數。計算公式為OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。
　　現代的真空鍍膜技術中，真空蒸鍍金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子束加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的zui多的是鍍鋁膜；目前鍍鋁膜層厚度可使用光密度儀來測量，檢測鍍鋁膜的光度密度法就是需要使用到鍍鋁膜光密度儀，也叫鍍鋁膜光密度計。
　　通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過率為10%－0.1%），數值越大鍍鋁層越厚，美國國家標準局的ANSI/NAPM IT2.19對試驗條件做了詳細規定。
　　鍍鋁薄膜通常應用于具有阻隔性或遮光性要求的包裝上使用，因此，鍍鋁層的厚度和表面狀況以及附著牢度的大小將直接影響其上述性能。鍍鋁膜的檢驗主要體現在厚度、鍍鋁層牢度和鍍鋁層的表面狀況等方面。
　　由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度，常用的檢測方法就是光密度法；LS117光密度儀應用而生。
<strong>光密度儀原理</strong>
　　所以，真空鍍鋁膜在生產線上就要控制好鍍膜厚度的均勻性，如今市場上有便攜式鍍鋁膜，可以直接檢測樣片的光密度數值。